中国是世界上最大的化工大国，化工原材料、化工技术人员众多，但是在抗蚀剂方面，仍然存在着严重的滞后和严重的依赖。造成这种局面的原因有两个：

一是具有较高的技术困难和较低的 R& D投资。由于其制备工艺中原材料种类繁多，反应条件复杂，对生产工艺要求较高，对产品品质要求较高。同时，由于光刻胶的尺寸日益减小，对其性能的需求也在增加，因此，为了满足各种暴露波段及加工条件的需求，必须研发出适合于各种暴露波段及加工环境的新型敏化剂及树脂。要做到这一点，就必须要有庞大的研究与开发资金，并经过漫长的时间累积。然而，当前中国在该方面的研究与开发投资却十分有限，且多聚焦在低端 G/i、 KrF等，对于 ArF、 EUV等高端光刻胶上尚处在实验研究阶段。

二是这是一个很小的和不具竞争力的市场。中国在芯片生产上与世界其他国家相比存在一定差距，因此，我国对于光刻胶的需求很少，而且其发展前景也不明朗。再加上目前我国的半导体厂商，对于本土化的支撑力度不够，对于进口产品的依赖程度太高，价格敏感性较差，使得我国的光刻胶很难开拓出一片新的天地。而在国际上，由于国际上已出现了垄断或者寡头垄断的局面，使得我国的半导体光刻面临着严峻的挑战。

由于技术难度大，研发投入少，市场规模小，竞争力差等因素，导致我国目前仍依靠进口。要改变这个现状，就必须从这两个角度入手！

事实上，国家及有关部门，已经推出一系列的政策，来扶持本土公司，增加他们在光刻胶方面的投资，以及在其他方面的发展。与此同时，一大群有能力、有眼光的本土公司，正在全国范围内，为我国在光刻材料方面的研究与开发提供有力的技术支持。当前，在印刷电路板光刻胶中，国内生产的湿膜型胶片占50%；在液晶显示用抗蚀剂方面，目前国内对彩色抗蚀剂和黑抗蚀剂的替代率约为5%；在半导体光刻胶方面， G/i线型光刻胶已进入量产阶段， KrF型光刻胶已进入量产阶段， ArF型光刻胶也已进入量产阶段，预计将进入量产阶段。